회사소개

ALD 기술로 그리는 첨단 산업의 미래

기업정보

기업명

넥서스비

ALD
대표자

최학영

ALD
설립일

2015.12.21

ALD
  • 본점 : 전북 전주시 덕진구 사평로 32
  • HQ : 경기도 용인시 기흥구 탑실로 42
  • 2공장 : 경기도 화성시 정남산단로 112

비전

ALD
Innovation

혁신주도

ALD
Realizaation

실현 가능성

ALD
Customer

고객만족

ALD
Employee

임직원의 행복

사업소개

시/공간분할 방식의 ALD 기술 원천 핵심 기술 기반
ALD
저온/정밀제어 & 진공/비진공
고생산성 시/공간분할 ALD
ALD
상압 R2R & Powder ALD
ALD
전력반도체용 Mixed ALD
대표산업분야
01 Memory & System IC & Power
ALD

DRAM/NAND Capacitor, TSV, Stacking 등
High Step coverage & Unif., Impurity Free Layer 및
차세대 전력반도체용 GaOx Epi. 증착

02 Li-ion Battery & Energy
ALD

Li-ion Battery의 충방전 효율향상을 위한 양극재 및 분리막
& 페로브스카이트 태양전지 등 Passivation Layer

03 OLED & Flexible/AR/VR Display
ALD

Flexible, Micro LED 및 AR/VR용 Micro OLED 등
저온/정밀조성제어 Passivation 및
OLED 차세대 Channel Layer(산화물반도체,IGZO) 증착

04 3D/2D & Powder Coating
ALD

증착 및 식각 Chamber내 Showerhead 및 기타 Parts의 내열,
내부식성 향상 및 2D Film등의 표면 특성 개질 등 기능성 Layer
및 Powder Coating

조직도

ALD

회사연혁

2025
  • 중국 법인 설립 / 수출계약
  • 삼성 SDI 공동개발
  • 태양광 PVSK向 공간분할 ALD 개발
  • 전력반도체向 산화갈륨에피증착장비 개발
  • KDB/KDBC 40억 투자유치
  • 경기 일자리 우수기업 인증
ALD
2024
  • Series B 100억 투자유치 완료
  • STI 협력 업체등록
ALD
2023
  • 삼성전자 공동개발
  • 전북 도지사상 수상
  • 23' 30억 투자유치
ALD
2022
  • ULVAC Korea 12” 반도체용ALD System 개발
  • 삼성종합기술원협력업체등록
  • IP 경영 인증, 전북 10대 특허 인증
  • 디스플레이 인력 양성 사업 선정
ALD
2021
  • SEMA Investment 투자 유치 (10 억 원)
  • 글로벌 IP 스타기업지정
  • SDC向 4.5G 공간분할 ALD System 개발
  • SEC向 ALD, Etch 동시 공정 Module 개발
ALD
2020
  • 소부장 전문기업 인증
ALD
2019
  • 기업부설 연구소설립
  • 중국向Plasma Enhanced ALD System 수출
  • LG 전자협력업체신규등록
ALD
2018
  • 자사 제품 출시 (Mini ALD, Plaminar ALD System)
ALD
2017
  • 이노폴리스 파트너스 펀드 투자 유치(5 억원)
  • ASM Korea 신규 업체등록
ALD
2016
  • 연구개발 특구 연구소 기업 등록
ALD
2015
  • 회사 설립(주식회사넥서스비)
ALD

투자유치 및 매출

지속적인 기술개발과 시장 점유 확대를 통해
사업 성과 강화, 매출 성장 및 투자금 확보

투자 유치
ALD

지속적인 매출성장과 기술 고도화 기반으로
누적 투자 유치 185억원

매출
ALD

2020년 이후 지속적인 매출 증가로
연평균 성장률 95%